Intel i ASML ogłosili, że przeprowadzili pierwsze testy uruchomieniowe swoich maszyn w aperturze High-NA EUV. Tzw. „testy pierwszego światła” zostały zdane, co oznacza, że urządzenie działa, choć nie jest jeszcze w pełni funkcjonalne.
Technologia High-NA EUV to aktualnie najnowocześniejsze maszyny litograficzne. Aktualnie na świecie znajdują się tylko dwa urządzenia tego typu – jedna w Holandii, a druga w Oregonie, w fabryce Intela. Intel jest aktualnie jedynym producentem półprzewodników, który współpracuje przy produkcji tych maszyn i ma zamiar zaimplementować je już w zapowiedzianym procesie technologicznym 14A (1,4 nm), który ma ruszyć w 2026, a następnie jeszcze w nowszych 10A o długości 1 nm. Dla porównania TSMC ma zamiar pracować na starszym typie Low-NA przy procesach 2 nm i 1,4 nm i przejść na High-NA EUV dopiero dla procesu 1 nm.
Szybkie uruchomienie maszyn litograficznych może mieć bardzo duże znaczenie w kontekście rozgrywającej się właśnie ostrej rywalizacji o jak największy kawałek rynku półprzewodników. O ile najprawdopodobniej TSMC będzie nadal największym graczem na rynku, to Intel poluje na pozycję Samsunga na drugim miejscu. Właśnie nowe procesy technologiczne, a przede wszystkim szybsze ich wprowadzanie na rynek mają przekonać wielkich graczy do zmiany partnera. Nieoficjalne informacje mowią nawet, że Intel próbuje rozmawiać z dużymi graczami koreańskimi, aby przekonać ich do zmiany fabryk na amerykańskie. Z kolei Samsung jest znany w branży z dużej dbałości o zadowolenie klientów. Niewątpliwie będzie to ciekawa rywalizacja.
Źródło: ITHardware.pl, Telepolis, DigiTimes
