Canon prezentuje maszynę do produkcji miniaturowych układów scalonych w procesie 5 nm
Canon wprowadził na rynek maszynę FPA-1200NZ2C służącą do produkcji miniaturowych układów cyfrowych w technologii litografii nano-imprint (NIL). Tym samym japońska firma ma zamiar rzucić wyzwanie ASML, zdecydowanemu liderowi w branży maszyn do produkcji najmniejszych układów półprzewodnikowych.

W tradycyjnym procesie fotolitografii maski są nakładane na odpowiednią warstwę za pomocą światła. Jednak technologia NIL, stosowana w maszynie Canona, działa nieco inaczej. Maski nie są projekcją światła, ale są drukowane bezpośrednio na warstwie, co pozwala na dokładniejsze odwzorowanie wzorów maski na waflu. Ponadto, proces NIL jest bardziej opłacalny.
Canon twierdzi, że nowe urządzenie jest w stanie obsłużyć proces technologiczny 5 nm. Co więcej, wciąż trwają prace nad rozwojem tej technologii, która ma osiągnąć nawet wymiar charakterystyczny 2 nm. Jeśli to się uda, to maszyny Canon będą poważnym konkurentem ASML na rynku.
Więcej informacji na stronie producenta: https://global.canon/en/news/2023/20231013.html

Infineon sfinalizował przejęcie portfolio nieoptycznych czujników analogowych i mieszanych sygnałów od firmy ams OSRAM
Nordic rozszerza usługę nRF Cloud o funkcję skanowania oprogramowania układowego pod kątem luk w zabezpieczeniach
Greenvolt podpisał umowę z BYD Energy Storage na magazyn energii w Polsce 


![https://www.youtube.com/watch?v=gHcP8AajoN4 Szymon Robak oprowadza po katowickim Laboratorium Badań Kompatybilności Elektromagnetycznej w Sieć Badawcza Łukasiewicz - Instytucie Sztucznej Inteligencji i Cyberbezpieczeństwa. Zapraszamy na film! [materiał redakcyjny]](https://mikrokontroler.pl/wp-content/uploads/2026/06/Szymon-Robak-tytulowe.png)
![https://www.youtube.com/watch?v=BgxJVTwYJ-s Zapraszamy do obejrzenia filmu i wysłuchania krótkich wypowiedzi prelegentów Hardware Forum 2026 i organizatorów majowej konferencji dla inżynierów z branży elektronicznej: Konrad Bruliński z Lemontech, prof. Krzysztof Kulpa z Politechniki Warszawskiej, Zbigniew Huber z FLC, Ewa Załupska z firmy KROK, Jerzy Kozieł z MPTECH, Grzegorz Potyralski z VIGO Photonics, dr Krzysztof Czuba z Politechniki Warszawskiej, Anna Beata Kalisz Hedegaard z Quantum Security Defence, Adrian Cichosz z Elhurt Dystrybucja Anna Kamińska z Creotech Quantum, oraz Łukasz Jaeszke i Adam Jaeszke z TEK.day [materiał redakcyjny]](https://mikrokontroler.pl/wp-content/uploads/2026/05/tytulowe-film-1.png)
