W Polsce powstaje Centrum Kompetencji Mikroelektroniki i Fotoniki. Będzie to wspólne przedsięwzięcie trzech jednostek naukowych, finansowanym ze środków KPO:

Łukasiewicz – Instytutu Mikroelektroniki i Fotoniki (lider),
Łukasiewicz – Instytutu Tele- i Radiotechnicznego,
Politechnika Warszawska, Centrum Zaawansowanych Materiałów i Technologii CEZAMAT.

Fot. Łukasiewicz – ITR

Realizacja zaplanowanej inwestycji pozwoli na stworzenie nowoczesnego na skalę światową centrum kompetencji, umożliwiającego realizację agendy badawczej na nieosiągalnym dotychczas poziomie. Dzięki temu polskie firmy będą posiadać szerszy dostęp do zaawansowanej infrastruktury badawczej projektowanej ściśle pod ich potrzeby oraz będą miały większe szanse na pozyskanie międzynarodowych grantów i partnerów badawczych.

Centrum Kompetencji Mikroelektroniki i Fotoniki przyczyni się również do rozwoju innowacji technologicznych, pozwalających polskim przedsiębiorstwom osiągnąć przewagę konkurencyjną, do umożliwienia postępu w obszarach mikroelektroniki i fotoniki, a także do przyspieszenia transferu nowoczesnych technologii do gospodarki.

Nowe lub zmodernizowane laboratoria

W ramach inwestycji zbudowane lub zmodernizowane będą następujące laboratoria:

• Laboratorium Materiałów Funkcjonalnych
• Laboratorium Przyrządów GaN i mikromontażu
• Laboratorium Fotoniki Podczerwieni
• Laboratorium Projektowania Układów Scalonych i Systemów Elektronicznych
• Laboratorium Centrum Grafenu i Innowacyjnych Nanotechnologii
• Laboratorium Szkieł Specjalnych i Światłowodów
• Laboratorium Obwodów Drukowanych i Montażu Elektronicznego
• Centrum Zaawansowanych Materiałów PW

Zbudowane lub zmodernizowane w ramach przedsięwzięcia laboratoria będę umożliwiały prowadzenie skorelowanych interdyscyplinarnych badań naukowych i prac rozwojowych na najwyższym światowym poziomie, zapewniając i stymulując ciągły postęp technologiczny i rozwój gospodarczy, co ma wpływ na całe społeczeństwo. W ramach centrum kompetencji realizowane będą prace badawczo-rozwojowe przez zespoły naukowców, inżynierów, projektantów i specjalistów z różnych dziedzin, którzy będą ze sobą współpracować w celu opracowania nowych rozwiązań technologicznych.

Przedmiotowa infrastruktura, która zostanie wzmocniona lub powstanie w ramach projektu, ukierunkowana zostanie na zaspokajanie potrzeb w obszarze B+R polskich przedsiębiorstw ze szczególnym uwzględnieniem takich obszarów jak: elektronika, mikroelektronika, fotonika, inżynieria materiałowa i przyrządy półprzewodnikowe.

Branże, które skorzystają z nowoczesnej infrastruktury stworzonej w ramach projektu

• energetyczna (w tym elektroenergetyczna),
• zbrojeniowa,
• elektroniczna,
• medyczna (w tym telemedycyna),
• telekomunikacyjna.

Projekt wpisuje się w następujące obszary Krajowych Inteligentnych Specjalizacji (KIS):

KIS 4. ZRÓWNOWAŻONA ENERGIA
KIS 8. ZAAWANSOWANE MATERIAŁY I NANOTECHNOLOGIA
KIS 9. ELEKTRONIKA I FOTONIKA

Łukasiewicz – Instytut Tele-i Radiotechniczny zmodernizuje pomieszczenia oraz zakupi i uruchomi aparaturę w ramach rozwoju Laboratorium Obwodów Drukowanych i Montażu Elektronicznego. Będzie to ważna część Centrum Kompetencji Mikroelektroniki i Fotoniki.

Laboratorium wychodząc naprzeciw wyzwaniom stawianym współczesnej elektronice i fotonice, będzie realizować interdyscyplinarne badania rozwijając technologie obwodów drukowanych.

Prace badawcze będą dotyczyć opracowania nowych rozwiązań w zakresie konstrukcji, doboru materiałów, optymalizacji procesów technologicznych i wytwórczych obwodów drukowanych oraz montażu i demontażu zespołów elektronicznych.

Prace w zakresie obwodów drukowanych będą dotyczyć tworzenia nowatorskich technologii. W zakresie systemów antenowych i transmisji planowane jest wytworzenie hybrydowych obwodów drukowanych. Duże znaczenie w ich wykonaniu odgrywa przygotowanie powierzchni przed procesami metalizacji i łączenia. Nowo powstała infrastruktura pozwoli na zoptymalizowanie parametrów wielu wykorzystywanych obecnie jak i planowanych do opracowania procesów technologicznych. Efektem prac będzie zmniejszenie wymiarów i masy obwodów drukowanych, co przekłada się na zwiększenie szybkości oraz jakości przesyłanych sygnałów.

Planowane są badania ukierunkowane na rozwój technologii obwodów drukowanych o wysokiej skali integracji (High Density Interconnection) i poziomie niezawodności. Przykładem jest technologia Sequential Build-Up. Zastosowanie nowoczesnych technik takich jak: ablacja laserowa, aktywacja plazmowa, registracja rentgenowska, laminowanie próżniowe czy selektywne nanoszenie powłok ochronnych umożliwią osiągnięcie wyznaczonych celów badawczych.

Laboratorium zajmie się także badaniem i rozwiązywaniem problemów dotyczących technologii montażu wyrobów elektronicznych. Część prac zostanie ukierunkowanych na badanie możliwości aplikacji wyrobów elektronicznych dla różnych sektorów gospodarki w tym elektroniki użytkowej, medycznej, motoryzacyjnej, zbrojeniowej, a także specjalizowanej elektroniki dla urządzeń eksploatowanych w warunkach przestrzeni kosmicznej.

Podsumowując w Łukasiewicz – ITR powstanie nowoczesne innowacyjne na skale Polskiego przemysłu i polskich ośrodków badawczo rozwojowych Laboratorium Obwodów Drukowanych i Montażu Elektronicznego dające możliwość:

• tworzenia rozwiązań PCB dla szerokiej gamy sektorów przemysłowych i naukowych,
• tworzenia nowoczesnych i unikatowych technologii w tym hybrydowych obwodów drukowanych,
• stosowania techniki wypełniania mikroprzelotek i planaryzacja powierzchni,
• wykonywania precyzyjnych obwodów wielowarstwowych o wysokiej dokładności pozycjonowania mozaiki,
• zastosowania plazmowych technik aktywacji powierzchni zaawansowanych materiałów kompozytowych,
• zastosowania innowacyjnej technologii nanoszenia warstw ochronnych,
• miniaturyzacji obwodów drukowanych: redukcja wymiarów i masy.

Projekt w ujęciu finansowym

Wartość całkowita projektu: 519 681 492,83 PLN
Wartość całkowita dofinansowania: 369 971 890 PLN
Wartość projektu Łukasiewicz – ITR: 25 557 900,00 PLN
Wartość dofinansowania Łukasiewicz – ITR: 16 686 600,00 PLN

Źródło: Łukaszewicz-ITR