ASML wyróżnił firmę TRUMPF za nowy laser EUV. Pierwsze seryjne egzemplarze otrzyma już w 2026 roku
Bliska i wyłączna współpraca niemieckiego producenta laserów TRUMPF z holenderską firmą ASML umożliwia producentom układów scalonych na całym świecie tworzenie bardziej niezawodnych i oszczędnych pod względem zasobów systemów litograficznych.

– Holenderska firma technologiczna ASML uhonorowała firmę TRUMPF prestiżową nagrodą Supplier Award w kategorii „Technologia”. Okazją do tego wyróżnienia jest udany rozwój i „pierwsze światło” nowego lasera wysokiej energii EUV, który ma zapewnić najpotężniejsze na świecie mikrochipy w systemach litografii EUV nowej generacji firmy ASML. Firma TRUMPF niedawno pomyślnie przetestowała laser po raz pierwszy, a rozpoczęcie produkcji seryjnej planowane jest na 2026 rok. ASML z niecierpliwością oczekuje na dostawę nowych laserów TRUMPF, ponieważ mają one zwiększyć dostępność i moc naszych produktów EUV przy niższym zużyciu energii – oznajmiła Sheila Leenders, starszy wiceprezes ds. zaopatrzenia strategicznego i zakupów w ASML
– Nowy laser EUV, składający się z ponad 450 tysięcy pojedynczych części i ważący ponad 20 ton, stanowi kamień milowy w produkcji półprzewodników. System został gruntownie przeprojektowany przez firmę TRUMPF w celu dalszego zwiększenia niezawodności i dostępności chipów w fabrykach. Jednocześnie nowy laser zużywa mniej energii, przyczyniając się tym samym do oszczędzania zasobów i redukcji emisji CO₂. Nagroda przyznana przez ASML stanowi szczególne uznanie dla zaangażowania i innowacyjności naszego zespołu. Jednocześnie podkreśla znaczenie ścisłej współpracy z ASML – powiedział Volker Jacobsen, dyrektor generalny EUV w TRUMPF
Nagroda została wręczona 23 października 2025 r., podczas Dnia Dostawców ASML . Pierwsze nowe lasery wysokoenergetyczne mają zostać dostarczone do ASML w 2026 r.
TRUMPF Huettinger jest producentem zasilaczy do procesów powlekania i trawienia plazmowego, nagrzewania indukcyjnego i wzbudzania laserów. Produkty firmy dostarczają energii procesowej dla wielu gałęzi przemysłu high-tech. Systemy zasilające wykorzystywane są do wytwarzania struktur półprzewodnikowych najbardziej zaawansowanych technologicznie pamięci 3D i procesorów. Do produkcji ogniw fotowoltaicznych, pokrywania powierzchni szklanych i plastikowych (telewizory i monitory LED, OLED, LCD, wyświetlacze telefonów, szkło optyczne, przemysłowe i budowlane). Jak również do utwardzania powierzchni metalowych (wiertła, koła zębate, łopatki turbin silników lotniczych, protezy, implanty, powłoki wykończeniowe, zabezpieczające i dekoracyjne) oraz wielu innych. Firma posiada centra badawczo-rozwojowe i produkcyjne w kilku krajach, z których największe jest w Polsce i Niemczech. Oddziały sprzedaży i serwisu ulokowane są w Europie, Ameryce i Azji. W Polsce zatrudnionych jest ok. 1,5 tys. pracowników.

Zwolnienie z amerykańskich ceł dla ASML i europejskich producentów sprzętu półprzewodnikowego
Fotolitografia nie zawsze „foto” – Grzegorz Kamiński opisuje procesy nanoszenia wzorów na płytki półprzewodnikowe
Najnowocześniejsze maszyny litograficzne ASML wyposażone w funkcję zdalnego unieruchomienia na wypadek wojny w Tajwanie 



