Samsung wdroży technologię ASML do produkcji pamięci DRAM

Samsung Electronics i ASML rozszerzają współpracę w zakresie produkcji półprzewodników. Firmy skupią się na litografii EUV High NA oraz nowych technologiach produkcyjnych. Współpraca ma przyspieszyć rozwój rozwiązań potrzebnych przy produkcji kolejnych generacji układów. Ma to znaczenie zwłaszcza wobec rosnącego zapotrzebowania na chipy dla sztucznej inteligencji. Samsung dołączy również do inicjatywy dotyczącej rozwoju 12-calowych fotomasek. Rozwiązanie ma wspierać przyszłe zastosowania litografii EUV High NA.

Źródło: ASML

Samsung stawia na 12-calowe fotomaski

Przemysł półprzewodnikowy od wielu lat wykorzystuje przede wszystkim fotomaski w formacie 6-calowym. Rozwój High NA może jednak zwiększyć znaczenie większego formatu. Samsung chce uczestniczyć w pracach nad fotomaskami 12-calowymi. Firma będzie współpracować z innymi podmiotami przy rozwoju technologii oraz potrzebnej infrastruktury. Większe maski mają zwiększyć wydajność zakładów i ograniczyć koszty produkcji układów. Ponadto mogą zmniejszyć ograniczenia związane z łączeniem fragmentów obrazu. Dzięki temu producenci będą mogli szerzej wykorzystywać możliwości litografii High NA. Rozwiązanie może mieć znaczenie przy kolejnych generacjach zaawansowanych półprzewodników.

High NA ma trafić do produkcji pamięci DRAM

Samsung planuje kolejny etap wdrażania technologii ASML. Do 2028 roku chce zastosować High NA w seryjnej produkcji pamięci DRAM. Według firmy będzie to pierwsze takie wdrożenie w branży. Technologia ma wspierać dalsze skalowanie pamięci oraz rozwój procesów produkcyjnych. High NA oferuje większą rozdzielczość niż obecne rozwiązania EUV. Dzięki temu może ograniczyć liczbę etapów potrzebnych podczas wytwarzania określonych struktur. Samsung oczekuje również wzrostu wydajności procesu. Technologia może znaleźć zastosowanie zarówno w produkcji pamięci, jak i układów logicznych.

Samsung wykorzysta doświadczenie z technologią EUV

Firma działa zarówno na rynku pamięci, jak i w sektorze foundry. Ma także doświadczenie związane z wykorzystaniem zaawansowanej litografii EUV. Samsung zamierza wykorzystać te kompetencje podczas prac nad większym formatem fotomasek. Jednocześnie będzie rozwijać potrzebną infrastrukturę wspólnie z partnerami branżowymi. Firmy chcą również kontynuować współpracę przy zaawansowanych pamięciach. Kolejnym obszarem będą nowe metody produkcji półprzewodników.

AI zwiększa wymagania wobec produkcji chipów

Rozwój sztucznej inteligencji zwiększa zapotrzebowanie na bardziej zaawansowane układy. Jednocześnie stawia nowe wymagania przed producentami półprzewodników.

– Era sztucznej inteligencji zmienia branżę półprzewodników – powiedział Young Hyun Jun, wiceprezes i dyrektor generalny Samsung Electronics.

Jak zaznaczył, zmiany zwiększają znaczenie rozwoju technologii w całym łańcuchu wartości. Samsung chce więc rozwijać produkcję pamięci oraz działalność foundry. Współpraca z ASML ma być jednym z elementów tych działań. Obie firmy zamierzają kontynuować rozwój technologii potrzebnych przy kolejnych generacjach półprzewodników.

ASML rozwija High NA wspólnie z producentami chipów

ASML od wielu lat współpracuje z Samsungiem przy rozwoju technologii litograficznych. Obecnie jednym z głównych obszarów tych działań jest High NA.

– Samsung od wielu lat jest jednym z najważniejszych partnerów ASML w zakresie innowacji – powiedział Christophe Fouquet, prezes ASML.

Według niego rozwój AI zwiększa znaczenie współpracy pomiędzy dostawcami technologii i producentami półprzewodników. Firmy chcą więc wspólnie przygotowywać rozwiązania dla kolejnych procesów produkcyjnych. Rozszerzone partnerstwo obejmie między innymi litografię High NA, fotomaski oraz zaawansowane pamięci. Samsung i ASML będą również analizować kolejne technologie produkcji półprzewodników.

Źródło: ASML