Technologia High NA EUV firmy ASML jest gotowa – Intel Foundry rozpoczął masową produkcję procesorów Panther Lake

Firma ASML poinformowała, że Intel Foundry wykorzystuje technologię High NA EUV w węźle procesowym Intel 18A do produkcji części procesorów z serii Intel® Core™ Ultra Series 3. Ten kamień milowy stanowi ważny krok w kierunku wykazania gotowości do stosowania litografii EUV o wysokiej aperturze numerycznej (High NA EUV) w środowisku produkcyjnym.

• Intel Foundry rozpoczęło masową produkcję wybranych procesorów z serii Intel® Core™ Ultra 3, o nazwie kodowej Panther Lake, z wykorzystaniem technologii EXE High NA EUV firmy ASML
• Określone warstwy procesu Intel 18A uzyskały obecnie podwójną kwalifikację w technologii High NA EUV w zakładzie w Oregonie, a produkty są dostarczane do klientów z wydajnością na poziomie porównywalnym z platformą NXE
• Intel i ASML nadal ściśle współpracują nad przygotowaniem technologii High NA EUV, zachowując elastyczność pozwalającą na wdrożenie jej w przyszłych węzłach procesowych w zależności od potrzeb klientów

Urządzenie EXE:5000 firmy ASML w laboratorium High NA w Veldhoven | źródło: ASML

Współpraca od dziesięcioleci

ASML i Intel od dziesięcioleci ściśle współpracują nad rozwojem technologii litografii i wspieraniem dalszego miniaturyzowania półprzewodników. Proces litografii w ekstremalnym ultrafiolecie o wysokiej aperturze numerycznej (High NA EUV) stanowi ważny kolejny krok w litografii EUV, opracowany przez ASML w celu umożliwienia bardziej precyzyjnego nanoszenia wzorów w zaawansowanej produkcji chipów.

Procesory Intel® Core™ Ultra Series 3, o nazwie kodowej Panther Lake, są oparte na procesie technologicznym Intel 18A. Wykorzystanie litografii High NA EUV do tworzenia wzorów na określonych warstwach tych produktów dostarcza firmom ASML i Intel Foundry cennych danych, które pozwolą na dalsze udoskonalenie konfiguracji systemu, zwiększenie czasu sprawności oraz usprawnienie wdrażania procesu produkcyjnego. Toruje to drogę do szerszego zastosowania tej technologii, z wykorzystaniem jej pełnego potencjału.

Zwiększona rozdzielczość i lepsza kontrola procesów

– Dzięki zwiększonej rozdzielczości i lepszej kontroli procesu wprowadzenie litografii EUV o wysokim współczynniku NA stanowi znaczący krok naprzód w litografii półprzewodnikowej. Jesteśmy dumni, że możemy przyczynić się do umożliwienia tworzenia mniejszych i gęstszych wzorów, co przyspieszy postęp w dziedzinie sztucznej inteligencji i innych nowych technologii – powiedział Christophe Fouquet, prezes i dyrektor generalny ASML.

Kamień milowy w technologii High NA EUV

– Ten kamień milowy odzwierciedla ścisłą współpracę techniczną między firmami Intel i ASML oraz pokazuje, w jaki sposób technologia High NA EUV może zostać zintegrowana z zaawansowaną produkcją półprzewodników na dużą skalę. Dzięki wdrożeniu opcji procesu litografii EUV o wysokim współczynniku NA na wybranych warstwach produktów Intel 18A nasz obecny park urządzeń zapewnia klientom zwiększoną wydajność, podczas gdy my opracowujemy przyszłe rozwiązania, aby osiągnąć najnowocześniejszą wydajność, gęstość i elastyczność produkcji w nadchodzących węzłach technologicznych – powiedział Naga Chandrasekaran, wiceprezes wykonawczy i dyrektor generalny Intel Foundry.

W 2024 roku firmy Intel i ASML zakończyły integrację pierwszego w branży komercyjnego systemu litografii EUV o wysokim współczynniku NA w ośrodku badawczo-rozwojowym firmy w Hillsboro w stanie Oregon. Intel Foundry była również pierwszą firmą, która zainstalowała i pomyślnie przeszła testy odbiorcze systemu drugiej generacji TWINSCAN EXE:5200B, opartego na modelu TWINSCAN EXE:5000, który zapewnia większą wydajność i dokładność nakładania obrazów, a także ulepszone źródło światła. Dzięki tej zapowiedzi Intel Foundry jako pierwsza firma w branży rozpocznie masową produkcję układów logicznych z wykorzystaniem litografii EUV o wysokim współczynniku NA.